Pemprosesan Photoresist
Semasa pemprosesan photoresist, imej daripada pemaparan CAD atau Adobe Illustrator diletakkan pada lapisan photoresist pada kepingan logam.Paparan CAD atau Adobe Illustrator dicetak pada kedua-dua belah kepingan logam dengan mengapitnya di atas dan di bawah logam.Sebaik sahaja kepingan logam meletakkan imej, ia terdedah kepada cahaya UV yang meletakkan imej secara kekal.Di mana cahaya UV bersinar melalui kawasan lamina yang jelas, photoresist menjadi teguh dan mengeras.Kawasan hitam lamina tetap lembut dan tidak dipengaruhi oleh cahaya UV.
Dalam peringkat pemprosesan photoresist etsa logam fotokimia, imej daripada reka bentuk CAD atau Adobe Illustrator dipindahkan ke lapisan photoresist pada kepingan logam.Ini dilakukan dengan mengapit reka bentuk di atas dan di bawah kepingan logam.Sebaik sahaja imej digunakan pada kepingan logam, ia terdedah kepada cahaya UV, yang menjadikan imej kekal.
Semasa pendedahan UV, kawasan lamina yang jelas membenarkan cahaya UV melaluinya, menyebabkan photoresist mengeras dan menjadi teguh.Sebaliknya, kawasan hitam lamina tetap lembut dan tidak terjejas oleh cahaya UV.Proses ini mencipta corak yang akan membimbing proses etsa, di mana kawasan yang mengeras akan kekal dan kawasan lembut akan terukir.
